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Oxidation kinetics of nanocrystalline Al thin films 期刊论文
Anti-Corrosion Methods and Materials, 2019, 卷号: 66, 期号: 5, 页码: 638-643
作者:  J.S.Luo;  L.G.Zhang;  H.G.Yang;  N.Zhang;  Y.F.Zhu;  X.Y.Liu
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Al,Grain boundary diffusion,Nanocrystalline films,Oxidation kinetics,resistive evaporation,thermal-oxidation,aluminum,mechanism,al(111),growth,al2o3,cu2o,Metallurgy & Metallurgical Engineering  
Dependence of Thermal Annealing on Transparent Conducting Properties of HoF3-Doped ZnO Thin Films 期刊论文
Chinese Physics Letters, 2019, 卷号: 36, 期号: 5, 页码: 4
作者:  J.S.Luo;  J.Lin;  L.G.Zhang;  X.Y.Guo;  Y.F.Zhu
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