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静电场辅助的微压印光刻技术 期刊论文
光学精密工程, 2017, 页码: 663-671
作者:  刘民哲;  王泰升;  李和福;  刘震宇;  陈佐龙;  鱼卫星
caj(769Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：377/110  |  提交时间：2018/04/09
静电场  压印  微纳结构  两相流