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边界位移调节量对薄膜反射镜成形的影响 期刊论文
半导体光电, 2010, 期号: 3
作者:  石广丰;  金光;  张鹏;  孙小伟
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静电拉伸  薄膜反射镜  预应力/预应变  边界位移  
TFT5次光刻背沟道刻蚀型与保护型工艺 期刊论文
半导体技术, 2008, 期号: 12
作者:  辛玉洁;  于春崎
caj(445Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:535/74  |  提交时间:2012/09/25
薄膜晶体管  5次光刻  背沟道刻蚀型  背沟道保护型  A-si岛