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点缺陷调控:宽禁带Ⅱ族氧化物半导体的机遇与挑战 期刊论文
物理学报, 2019, 卷号: 68, 期号: 16, 页码: 76-90
作者:  谢修华;  李炳辉;  张振中;  刘雷;  刘可为;  单崇新;  申德振
caj(2096Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:147/37  |  提交时间:2020/08/24
宽禁带  点缺陷  掺杂  离化能