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确定单晶硅湿法刻蚀制作中阶梯光栅中刻蚀截止点的方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: 201310251594.9, 申请日期: 2014-11-19, 公开日期: 2014-11-19
发明人:  焦庆斌 谭鑫 巴音贺希格 齐向东
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一种全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的装置 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2010-06-23, 公开日期: 2012-08-29
发明人:  李文昊;  高键翔;  巴音贺希格;  齐向东;  谭鑫;  曾瑾
Adobe PDF(344Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：483/78  |  提交时间：2012/08/29