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一种平面全息光栅制作中精确控制刻线密度的方法 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2008-02-27, 公开日期: 2008-02-27
发明人:  巴音贺希格;  齐向东;  李英海;  于宏柱;  李文昊
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