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低温下用磁控溅射技术制备无应力氧氮硅薄膜 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2002-08-14, 公开日期: 2012-08-29
发明人:  刘益春;  吕有明;  刘玉学;  张吉英;  申德振;  范希武
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