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离子/等离子体辅助蒸发方法制备碳锗合金膜 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2004-12-15, 公开日期: 2012-08-29
发明人:  高劲松;  王笑夷
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低压反应离子镀方法制备碳锗合金膜 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2004-12-15, 公开日期: 2012-08-29
发明人:  王笑夷;  高劲松
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利用光刻技术和汽相沉积技术制作薄膜热电偶 (发明) 专利
专利类型: 发明专利, 申请日期: 2004-02-11, 公开日期: 2004-02-11
发明人:  高劲松
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