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芳香烃中位取代氟硼二吡咯的薄膜放大自发辐射稳定性研究 期刊论文
发光学报, 2017, 页码: 499-506
作者:  吕晨曦;  张镭;  杨杨;  张立功;  林杰;  刘星元
caj(5634Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：367/103  |  提交时间：2018/04/09
氟硼二吡咯衍生物  放大自发辐射  稳定性  分子结构  
高功率TEA CO_2激光器主机结构优化设计 期刊论文
发光学报, 2013, 期号: 03, 页码: 388-393
作者:  邵明振;  邵春雷;  卢启鹏;  郭劲;  李殿军
caj(884Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：423/137  |  提交时间：2014/03/07
Tea Co2激光器  主机结构  应力集中  应变