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157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展 期刊论文
材料导报, 2003, 期号: 06, 页码: 34-36
作者:  臧春雨;  曹望和;  石春山
caj(186Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：454/81  |  提交时间：2013/03/11
半导体制造业  157nm紫外光刻技术  Caf_2晶体  双折射