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芳香烃中位取代氟硼二吡咯的薄膜放大自发辐射稳定性研究 期刊论文
发光学报, 2017, 页码: 499-506
作者:  吕晨曦;  张镭;  杨杨;  张立功;  林杰;  刘星元
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氟硼二吡咯衍生物  放大自发辐射  稳定性  分子结构  
氟硼二吡咯类材料的放大自发发射性能 期刊论文
吉林大学学报(理学版), 2015, 期号: 05, 页码: 1027-1030
作者:  张镭;  杨杨;  林杰;  刘星元
caj(551Kb)  |  收藏  |  浏览/下载:401/152  |  提交时间:2016/07/06
氟硼二吡咯  放大自发发射  光稳定性