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芳香烃中位取代氟硼二吡咯的薄膜放大自发辐射稳定性研究 期刊论文
发光学报, 2017, 页码: 499-506
作者:  吕晨曦;  张镭;  杨杨;  张立功;  林杰;  刘星元
caj(5634Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：401/114  |  提交时间：2018/04/09
氟硼二吡咯衍生物  放大自发辐射  稳定性  分子结构