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Effects of Post Annealing Treatments on the Interfacial Chemical Properties and Band Alignment of AlN/Si Structure Prepared by Atomic Layer Deposition 期刊论文
Nanoscale Research Letters, 2017, 卷号: 12
作者:  Sun, L.;  H. L. Lu;  H. Y. Chen;  T. Wang;  X. M. Ji;  W. J. Liu;  D. X. Zhao;  A. Devi;  S. J. Ding and D. W. Zhang
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