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Exposure optical system in lithographic main scale of absolute optical encoder 期刊论文
Guangxue Jingmi Gongcheng/Optics and Precision Engineering, 2014, 卷号: 22, 期号: 7, 页码: 1814-1819
作者:  Liu H.;  Lu Z.-W.;  Xiong Z.;  Wang Y.;  Wang H.;  Huang J.-B.;  Tan X.-Q.;  Sun Q.
Adobe PDF(1146Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：318/71  |  提交时间：2015/04/24