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基于等离子体激发的氧化锌基深紫外发光器件研究 学位论文
: 中国科学院大学, 2014
作者:  胡光冲
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Mgzno  深紫外  等离子体  Mocvd  
157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展 期刊论文
材料导报, 2003, 期号: 06, 页码: 34-36
作者:  臧春雨;  曹望和;  石春山
caj(186Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：429/77  |  提交时间：2013/03/11
半导体制造业  157nm紫外光刻技术  Caf_2晶体  双折射