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In situ Fourier transform P-polarized infrared reflection absorption spectroscopic investigation of an interface properties of SiO2/Si(100) deposited using electron cyclotron resonance microwave plasma at room temperature 期刊论文
Thin Solid Films, 2000, 卷号: 370, 期号: 1—2, 页码: 199-202
作者:  Jia Y.;  Liang Y.;  Liu Y. C.;  Liu Y. X.;  Shen D. Z.
Adobe PDF(177Kb)  |  收藏  |  浏览/下载：474/77  |  提交时间：2012/10/21