中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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	EUV multilayer mirrors in solar X-EUV Imager
	H. F. Wang,X. D. Wang,B. Chen,Y. Q. Wang,S. L. Mao,S. Ren,P. Zhou,Y. Liu,T. L. Huo and H. J. Zhou
	2020
发表期刊	Optik
ISSN	0030-4026
卷号	204页码:8
摘要	Fe XII line (19.5 nm) is one of important targets of imaging detection in solar spectrum, and 19.5 nm multilayer mirrors were employed to reflect 19.5 nm line and suppress sidelobe. 19.5 nm multilayer mirrors with a bandwidth of 1.0 nm are in demand in Solar X-EUV imager installed in FengYun III satellite. Thickness ratios of Mo layer of 0.15 and 0.11, respectively, are utilized in multilayer mirrors at normal and 45 degrees incidence. The influence of roughness/diffusion on reflectance is discussed, and profile changes of substrate after deposition are also analyzed.
DOI	10.1016/j.ijleo.2020.164213
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收录类别	SCI ; EI
语种	英语
引用统计
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/64502
专题	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	H. F. Wang,X. D. Wang,B. Chen,Y. Q. Wang,S. L. Mao,S. Ren,P. Zhou,Y. Liu,T. L. Huo and H. J. Zhou. EUV multilayer mirrors in solar X-EUV Imager[J]. Optik,2020,204:8.
APA	H. F. Wang,X. D. Wang,B. Chen,Y. Q. Wang,S. L. Mao,S. Ren,P. Zhou,Y. Liu,T. L. Huo and H. J. Zhou.(2020).EUV multilayer mirrors in solar X-EUV Imager.Optik,204,8.
MLA	H. F. Wang,X. D. Wang,B. Chen,Y. Q. Wang,S. L. Mao,S. Ren,P. Zhou,Y. Liu,T. L. Huo and H. J. Zhou."EUV multilayer mirrors in solar X-EUV Imager".Optik 204(2020):8.

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