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二维光栅位移测量技术综述
尹云飞; 刘兆武; 吉日嘎兰图; 于宏柱; 王玮; 李晓天; 鲍赫; 李文昊; 郝群
2020-12-09
Source Publication中国光学
Volume13Issue:06Pages:1224-1238
Abstract超精密位移测量技术不仅是精密机械加工的基础,在以摩尔定律飞速发展的芯片制造行业中也起到决定性的作用。以光栅栅距为测量基准的光栅位移测量系统被广泛应用于多维测量系统,光栅位移测量系统与激光位移测量系统相比,大大降低了对使用环境的湿度、温度和气压的要求。本文主要介绍了近年来国内外基于二维光栅的位移传感系统光学结构的发展现状,从零差式和外差式光栅干涉测量原理入手,综述了基于单块二维光栅的光学结构到多块二维光栅耦合设计的光学结构发展历程,对比分析了几种二维光栅位移测量系统的优缺点,并展望了二维光栅位移测量系统发展趋势,总结了二维光栅位移测量系统的工程化进程。
Keyword二维光栅 光栅干涉技术 精密位移测量
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Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/64042
Collection中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Affiliation1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
2.中国科学院大学
3.北京理工大学光电学院
Recommended Citation
GB/T 7714
尹云飞,刘兆武,吉日嘎兰图,等. 二维光栅位移测量技术综述[J]. 中国光学,2020,13(06):1224-1238.
APA 尹云飞.,刘兆武.,吉日嘎兰图.,于宏柱.,王玮.,...&郝群.(2020).二维光栅位移测量技术综述.中国光学,13(06),1224-1238.
MLA 尹云飞,et al."二维光栅位移测量技术综述".中国光学 13.06(2020):1224-1238.
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