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850 nm高速垂直腔面发射激光器技术研究进展(特邀)
佟海霞; 佟存柱; 王子烨; 陆寰宇; 汪丽杰; 田思聪; 王立军
2020-12-25
Source Publication红外与激光工程
Volume49Issue:12Pages:22-29
Abstract垂直腔面发射激光器(VCSEL)具有低成本、低阈值、高速率和低功耗等优点,在短距离光互连中有着重要的应用。随着大数据、超级计算机技术的发展,短距离光互连性能需求越来越高,从而对高速调制的850 nm VCSEL技术提出了更高要求。从带宽限制机理、调制新方法两方面详细回顾了高速850 nm VCSEL技术最新进展,对技术发展趋势进行了总结与展望。
Keyword垂直腔面发射激光器 高速 脉冲幅度调制
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Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63978
Collection中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Affiliation1.中国科学院长春光学精密机械与物理研究所发光学及应用国家重点实验室
2.中国科学院大学材料科学与光电研究中心
Recommended Citation
GB/T 7714
佟海霞,佟存柱,王子烨,等. 850 nm高速垂直腔面发射激光器技术研究进展(特邀)[J]. 红外与激光工程,2020,49(12):22-29.
APA 佟海霞.,佟存柱.,王子烨.,陆寰宇.,汪丽杰.,...&王立军.(2020).850 nm高速垂直腔面发射激光器技术研究进展(特邀).红外与激光工程,49(12),22-29.
MLA 佟海霞,et al."850 nm高速垂直腔面发射激光器技术研究进展(特邀)".红外与激光工程 49.12(2020):22-29.
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