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摆动刻蚀法制作高衍射效率凸面闪耀光栅
王琼; 沈晨; 谭鑫; 齐向东; 巴音贺希格
2019
发表期刊强激光与粒子束
卷号31期号:06页码:7-15
摘要通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅。该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题。建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化的影响,并计算了优化的刻蚀工艺参数。制备了基底尺寸为67mm,曲率半径为156.88mm,刻线密度为45.5gr/mm,闪耀角为2.2°的凸面闪耀光栅,并对其表面形貌及衍射效率进行了测量。实验结果表明,摆动刻蚀法能够制作出闪耀角一致性好、衍射效率高的小闪耀角凸面光栅,满足成像光谱仪对光谱分辨率和便携性的使用要求。
关键词凸面闪耀光栅 摆动刻蚀 衍射效率 成像光谱仪
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63668
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
王琼,沈晨,谭鑫,等. 摆动刻蚀法制作高衍射效率凸面闪耀光栅[J]. 强激光与粒子束,2019,31(06):7-15.
APA 王琼,沈晨,谭鑫,齐向东,&巴音贺希格.(2019).摆动刻蚀法制作高衍射效率凸面闪耀光栅.强激光与粒子束,31(06),7-15.
MLA 王琼,et al."摆动刻蚀法制作高衍射效率凸面闪耀光栅".强激光与粒子束 31.06(2019):7-15.
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