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大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究
刘剑; 蔡黎明; 成贤锴; 顾国刚; 于涌
2019
发表期刊中国光学
卷号12期号:03页码:663-669
摘要为了提高氧化铝陶瓷导轨超精密研抛加工的工作效率,分析了研抛压力、研抛速度以及磨料添加间隔等工艺参数与研磨抛光效率的关系。首先,根据氧化铝陶瓷导轨的特性及物理参数,确定研磨抛光盘以及磨料的选型。然后以高精度平面平晶作为检测工具,平晶与导轨表面形成干涉条纹,利用条纹的数量定量表征研抛效果。最终得到氧化铝陶瓷导轨的最佳工艺参数:每个研抛压力应该控制在40 N;研抛线速度为45 m/min;研磨剂的添加时间为30 min。在同等时间内,应用此套工艺参数可以达到更高的面型精度。
关键词高精度 陶瓷导轨 超精研抛
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/63648
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
刘剑,蔡黎明,成贤锴,等. 大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究[J]. 中国光学,2019,12(03):663-669.
APA 刘剑,蔡黎明,成贤锴,顾国刚,&于涌.(2019).大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究.中国光学,12(03),663-669.
MLA 刘剑,et al."大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究".中国光学 12.03(2019):663-669.
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