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浸没式光刻投影物镜光学薄膜
毕丹丹; 张立超; 时光
2018
发表期刊中国光学
期号05页码:745-764
摘要深紫外光刻是目前集成电路制造的主流方法,为实现更小的元件特征尺寸,必须采用浸没式投影物镜以提高光学系统的分辨率,由此向其中的薄膜光学元件提出了众多苛刻的要求。本文介绍了适用于浸没式光刻系统的薄膜材料及膜系设计,以及高NA光学系统所需的大角度保偏膜系;对物镜中最关键的浸液薄膜的液体环境适应性、疏水及防污染等关键问题进行了讨论;对衡量浸没式光刻系统性能的重要因素镀膜元件激光辐照寿命,尤其是浸液环境下的元件辐照寿命进行了分析。
关键词浸没式光刻 光学薄膜 膜系设计 环境适应性 激光辐照寿命
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/61415
专题中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
毕丹丹,张立超,时光. 浸没式光刻投影物镜光学薄膜[J]. 中国光学,2018(05):745-764.
APA 毕丹丹,张立超,&时光.(2018).浸没式光刻投影物镜光学薄膜.中国光学(05),745-764.
MLA 毕丹丹,et al."浸没式光刻投影物镜光学薄膜".中国光学 .05(2018):745-764.
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