CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
静电场辅助的微压印光刻技术
刘民哲; 王泰升; 李和福; 刘震宇; 陈佐龙; 鱼卫星
2017-03-15
发表期刊光学精密工程
页码663-671
摘要介绍了一种静电场辅助的新型微压印光刻技术,并对其工艺过程进行了深入的理论研究。首先,采用数值仿真软件COMSOL~(TM) Multiphysics,建立了静电场辅助的压印光刻瞬态仿真分析模型,讨论了不同时域微结构的演化过程。然后,详细分析了微结构的成型与仿真实验参数的定性关系,发现:适当地减小极板间距、模板凸起结构周期,同时增加模板的凸起高度、初始聚合物薄膜厚度和电压有助于微纳结构的成型。最后,通过仿真实验参数优化,得到了带有31μm中空结构的球冠微结构。与传统压印方法相比,静电场辅助的微压印技术工艺过程简单且成本较低,能够广泛应用于微电子机械系统、光子学、遗传学和组织系统等。
关键词静电场 压印 微纳结构 两相流
DOI28930D17C2A3FB0A46850502A2C898DE
语种中文
引用统计
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58680
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
刘民哲,王泰升,李和福,等. 静电场辅助的微压印光刻技术[J]. 光学精密工程,2017:663-671.
APA 刘民哲,王泰升,李和福,刘震宇,陈佐龙,&鱼卫星.(2017).静电场辅助的微压印光刻技术.光学精密工程,663-671.
MLA 刘民哲,et al."静电场辅助的微压印光刻技术".光学精密工程 (2017):663-671.
条目包含的文件 下载所有文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
静电场辅助的微压印光刻技术.caj(769KB)期刊论文作者接受稿开放获取CC BY-NC-SA浏览 下载
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[刘民哲]的文章
[王泰升]的文章
[李和福]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[刘民哲]的文章
[王泰升]的文章
[李和福]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[刘民哲]的文章
[王泰升]的文章
[李和福]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
文件名: 静电场辅助的微压印光刻技术.caj
格式: caj
此文件暂不支持浏览
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。