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磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定
郑立功; 李龙响; 王孝坤; 薛栋林; 张学军
2017-01-15
发表期刊光学精密工程
页码8-14
摘要为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床坐标系中的精确对准。通过在光学元件的特征点上进行去除函数实验测试,实现了抛光轮最低点对应的去除函数原点位置标定,对标定误差进行了分析。选择圆形平面光学元件,应用以金刚石颗粒为抛光粉的水基磁流液,对抛光轮直径为360mm的磁流变抛光系统进行去除函数原点标定,单次标定精度达到0.030mm。实验结果表明:本文提出的去除函数原点标定方法简单可靠,能够满足磁流变抛光技术的修形需求,可为磁流变抛光在光学制造中的应用提供有力支持。
关键词光学制造 磁流变抛光 去除函数 原点标定
DOI8E859031FC3606480795D84FE6655EB6
语种中文
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文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58545
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
郑立功,李龙响,王孝坤,等. 磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定[J]. 光学精密工程,2017:8-14.
APA 郑立功,李龙响,王孝坤,薛栋林,&张学军.(2017).磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定.光学精密工程,8-14.
MLA 郑立功,et al."磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定".光学精密工程 (2017):8-14.
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