Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验 | |
汤伟 ; 王锐; 王挺峰; 郭劲
| |
| 2017-04-25 | |
| 发表期刊 | 红外与激光工程
 |
| 页码 | 60-65 |
| 摘要 | 开展了变焦彩色CCD成像系统的激光外场干扰实验,测得了半导体激光(750 nm)对变焦距(17~187 mm)彩色CCD相机的干扰效果;同时利用典型的激光干扰CCD模型,完成了对实验结果的验证与理论分析。理论与实验结果表明:750 nm激光对彩色CCD成像系统的干扰效果明显,CCD靶面出现了明显的光饱和和串扰现象;在激光辐照条件相同情况下,光学系统焦距f越大,被光阑截断的激光就越少,到靶的激光功率密度就越高,CCD靶面的光饱和面积就越大;光学系统焦距f为17 mm时,CCD靶面的光饱和面积为0.33 mm×0.29 mm,而当光学系统焦距f增大至120 mm时,CCD靶面的光饱和面积为1.8 mm×1.2 mm。仿真结果与实验结果基本一致,证明了理论模型的正确性。研究结果将对CCD器件的实际应用具有一定的指导意义。 |
| 关键词 | 激光干扰 变焦光学系统 半导体激光器 光饱和串扰 |
| DOI | B1D70FE1BB8608FA2C227E2789046C80 |
| 语种 | 中文 |
| 引用统计 | |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58380 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 汤伟,王锐,王挺峰,等. 变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验[J]. 红外与激光工程,2017:60-65. |
| APA | 汤伟,王锐,王挺峰,&郭劲.(2017).变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验.红外与激光工程,60-65. |
| MLA | 汤伟,et al."变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验".红外与激光工程 (2017):60-65. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 变焦彩色CCD成像系统的激光干扰实验.c（600KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |
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