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大失配、强极化第三代半导体材料体系生长动力学和载流子调控规律
王新强; 黎大兵; 刘斌; 孙钱; 张进成
2016-11-15
发表期刊发光学报
期号11页码:1305-1309
摘要高质量氮化镓(Ga N)材料是发展第三代半导体光电子与微电子器件的根基。大失配、强极化和非平衡态生长是Ga N基材料及其量子结构的固有特点,对其生长动力学和载流子调控规律的研究具有重要的科学意义与实用价值,受到各国科学界与产业界广泛高度重视。本文对大失配、强极化氮化物半导体材料体系外延生长动力学和载流子调控规律进行了研究,旨在攻克蓝光发光效率限制瓶颈,突破高Al和高In氮化物材料制备难题,实现高发光效率量子阱和高迁移率异质结构,制备多波段、高效率发光器件和高频率、高耐压电子器件,实现颠覆性的技术创新和应用,带动电子材料产业转型升级。
关键词氮化镓 大失配 强极化 生长动力学 载流子调控
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/57980
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
王新强,黎大兵,刘斌,等. 大失配、强极化第三代半导体材料体系生长动力学和载流子调控规律[J]. 发光学报,2016(11):1305-1309.
APA 王新强,黎大兵,刘斌,孙钱,&张进成.(2016).大失配、强极化第三代半导体材料体系生长动力学和载流子调控规律.发光学报(11),1305-1309.
MLA 王新强,et al."大失配、强极化第三代半导体材料体系生长动力学和载流子调控规律".发光学报 .11(2016):1305-1309.
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