Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响 | |
| 宋莹 | |
| 2016-05-25 | |
| 发表期刊 | 激光技术
 |
| 期号 | 3页码:339-343 |
| 摘要 | 为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能,了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响,基于曝光量表达式,结合光栅掩模槽形二元模型,采用理论分析和数值计算的方法,分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种形式的干涉条纹低频漂移均会降低曝光对比度,导致掩模槽形的可控性下降,其影响具有一致性;为保证曝光对比度达到0.95,低频漂移均方根值应控制在0.05个条纹周期以内;小幅值高频振动对光栅曝光的影响可以忽略;低频漂移造成的曝光量相位误差不影响光栅的衍射特性。结果表明,为获取合格的光栅掩模,应控制光刻胶非线性和曝光量的匹配关系,并将干涉条纹低频漂移均方根值控制在1/20条纹周期以内。可将其作为评价全息光栅曝光系统稳定性的重要指标。 |
| 关键词 | 光栅 光栅曝光 数值计算 条纹相位变化 曝光对比度 掩模槽形 |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/57608 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋莹. 干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响[J]. 激光技术,2016(3):339-343. |
| APA | 宋莹.(2016).干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响.激光技术(3),339-343. |
| MLA | 宋莹."干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响".激光技术 .3(2016):339-343. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响（261KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [宋莹]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [宋莹]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [宋莹]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论