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宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺
吴娜; 谭鑫; 于海利; 张方程
2015-07-15
发表期刊光学精密工程
期号07页码:1978-1983
摘要设计和制作了一种在同一基底上具有多闪耀角的宽波段全息-离子束刻蚀光栅。提出了组合形成宽波段全息-离子束刻蚀光栅的分区设计方法,优化了3种闪耀角混合的宽波段全息光栅设计参数,并利用反应离子束刻蚀装置对该光刻胶掩模进行刻蚀图形转移,采用分段、分步离子束刻蚀技术开展了获得不同闪耀角的离子束刻蚀实验。最后在同一光栅基底上分区制作了位相相同,并具有9,18,29°3个不同闪耀角,口径为60mm×60mm,使用波段为200~900nm的宽波段全息光栅。衍射效率测试结果显示其在使用波段的最低衍射效率超过30%,最高衍射效率超过50%,实验结果与理论计算结果基本符合。与其它方式制作的宽波段光栅相比,采用宽波段全息-离子束刻蚀光栅不但工艺成熟,易于控制光栅槽形,而且光栅有效面积尺寸较大,便于批量复制。
关键词全息光栅 宽波段光栅 离子束刻蚀 刻蚀模拟
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/53981
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
吴娜,谭鑫,于海利,等. 宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺[J]. 光学精密工程,2015(07):1978-1983.
APA 吴娜,谭鑫,于海利,&张方程.(2015).宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺.光学精密工程(07),1978-1983.
MLA 吴娜,et al."宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺".光学精密工程 .07(2015):1978-1983.
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