Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征 | |
王珣; 金春水 ; 李春; 匡尚奇
| |
| 2015-03-10 | |
| 发表期刊 | 光学学报
 |
| 期号 | 03页码:411-418 |
| 摘要 | 极紫外(EUV)反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积,严重影响了极紫外光刻(EUVL)技术的工业应用。为了延长EUV反射镜的稳定性与使用寿命,一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层。采用直流反应磁控溅射技术,建立氧气流量与溅射电压之间的迟滞回线关系,进而准确掌握不同氧化物保护层所需氧气量,以此减少过多的活性氧对下层Mo/Si多层膜的影响,提高镜面的反射率。选用Ru O2与Ti O2两种保护层材料进行比较,根据充氧量的不同,分析不同反应阶段的薄膜特性。针对催化性和物理稳定性更好的Ti O2薄膜,在晶相、表面粗糙度、截面均匀性和化学组分等方面给予评价。研制出膜质致密均匀的非晶态Ti O2薄膜,其表面粗糙度优于100 pm;Ti O2纯度(质量分数)达97.2%;保护层厚度为2 nm的Mo/Si多层膜的反射率损失小于5%,满足EUV外多层膜的基本要求。 |
| 关键词 | 薄膜 极紫外保护层 直流反应磁控溅射 迟滞回线 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/53892 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王珣,金春水,李春,等. 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征[J]. 光学学报,2015(03):411-418. |
| APA | 王珣,金春水,李春,&匡尚奇.(2015).极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征.光学学报(03),411-418. |
| MLA | 王珣,et al."极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征".光学学报 .03(2015):411-418. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征.c（1793KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 浏览 下载 | |
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [王珣]的文章 |
| [金春水]的文章 |
| [李春]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [王珣]的文章 |
| [金春水]的文章 |
| [李春]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [王珣]的文章 |
| [金春水]的文章 |
| [李春]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论