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红外焦平面阵列非均匀性校正算法研究
吕游; 何昕; 魏仲慧
2014
发表期刊计算机技术与发展
期号02页码:1-5
摘要红外焦平面阵列(IRFPA)的非均匀性校正是提升红外系统成像质量的重要环节。非均匀性校正算法主要分为基于参考辐射源的标定类校正算法和基于场景的校正算法。将基于参考辐射源的标定类校正算法按线性模型与非线性模型进行详细分类,基于场景的校正算法按空域和时域进行详细分类。针对不同类特点,分别对上述算法进行了详细的分析及比较,为今后非均匀性校正算法的选择提供理论基础,并根据现有两类算法特点,提出算法未来的研究方向。
关键词红外焦平面阵列 非均匀性校正 标定类校正算法 基于场景校正算法 自适应校正算法
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/53669
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
吕游,何昕,魏仲慧. 红外焦平面阵列非均匀性校正算法研究[J]. 计算机技术与发展,2014(02):1-5.
APA 吕游,何昕,&魏仲慧.(2014).红外焦平面阵列非均匀性校正算法研究.计算机技术与发展(02),1-5.
MLA 吕游,et al."红外焦平面阵列非均匀性校正算法研究".计算机技术与发展 .02(2014):1-5.
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