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绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计
郑黎明; 谭向全
2014-03-28
发表期刊机电产品开发与创新
期号2页码:108-109+79
摘要简述了绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计方案。针对曝光光源均匀性、图案畸变、精确放大倍率等难点问题,设计了刻划装置的专业装调方案。同时利用刻划装置的物理样机进行曝光加工,得到了满足设计要求的母光栅码道图案。
关键词绝对式光栅尺 母尺光栅 刻划装置 曝光光源
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/43602
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
郑黎明,谭向全. 绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计[J]. 机电产品开发与创新,2014(2):108-109+79.
APA 郑黎明,&谭向全.(2014).绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计.机电产品开发与创新(2),108-109+79.
MLA 郑黎明,et al."绝对式光栅尺母光栅刻划装置的设计".机电产品开发与创新 .2(2014):108-109+79.
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