| 热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性 |
| 才玺坤 ; 张立超; 梅林; 时光
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| 2014-10-15
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| 发表期刊 | 中国光学
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| 期号 | 5页码:808-815 |
| 摘要 | 研究了钼舟热蒸发工艺和离子束溅射方法制备的单层LaF3薄膜的特性。首先,采用分光光度计测量了LaF3薄膜的透射率和反射率光谱,使用不同模型拟合得出薄膜的折射率和消光系数。然后,采用应力仪测量了加热和降温过程中LaF3薄膜的应力-温度曲线。最后,采用X射线衍射仪测试了薄膜的晶体结构。实验结果表明,热蒸发制备的LaF3(RH LaF3)存在折射率的不均匀性,在193 nm,其折射率和消光系数分别为1.687和5×10-4,而离子束溅射制备的LaF3(IBS LaF3)折射率和消光系数分别为1.714和9×10-4。两种薄膜表现出相反的应力状态,RH LaF3薄膜具有张应力,而IBS LaF3具有压应力,退火之后其压应力减小。热蒸发制备的MgF2/LaF3减反膜在193 nm透过率为99.4%,反射率为0.04%,离子束溅射制备的AlF3/LaF3减反膜透过率为99.2%,反射率为0.1%。 |
| 关键词 | 薄膜
Laf3
热蒸发
离子束溅射
应力
减反膜
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/43416
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| 专题 | 中科院长春光机所知识产出
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
才玺坤,张立超,梅林,等. 热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性[J]. 中国光学,2014(5):808-815.
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| APA |
才玺坤,张立超,梅林,&时光.(2014).热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性.中国光学(5),808-815.
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| MLA |
才玺坤,et al."热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性".中国光学 .5(2014):808-815.
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文件名：
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热蒸发与离子束溅射制备LaF_3薄膜的光学特性.caj
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格式：
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caj
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