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BaTiO_3晶体薄膜PLD法生长工艺参量研究
张静; 付秀华; 杨飞; 杨彬; 孙德贵
2014-05-15
发表期刊光子学报
期号5页码:77-81
摘要采用脉冲激光沉积方法在单晶MgO基片上外延生长了BaTiO3晶体薄膜.为改善薄膜的结晶质量和表面粗糙度,研究并优化了生长工艺中生长温度和激光能量两个参量,并对薄膜样片实行原位退火.找到了BaTiO3薄膜在优先方向上的结晶效果,分析了结晶质量对生长温度的依赖关系和不同激光能量对结晶薄膜的表面粗糙度的影响.利用X射线衍射仪测定结晶效果与特性,原子力显微镜表征BaTiO3薄膜的结晶表面形貌与粗糙度.测试结果表明,在c轴取向生长BaTiO3薄膜,在(001)和(002)方向上都出现强度很高的尖锐衍射峰,具有较好的结晶质量和较小的表面粗糙度,原子力显微镜测定出薄膜的表面粗糙度为0.563nm.
关键词光学薄膜 光谱分析 真空镀膜 光学特性 生长温度 激光能量 结晶质量 表面粗糙度
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/43285
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
张静,付秀华,杨飞,等. BaTiO_3晶体薄膜PLD法生长工艺参量研究[J]. 光子学报,2014(5):77-81.
APA 张静,付秀华,杨飞,杨彬,&孙德贵.(2014).BaTiO_3晶体薄膜PLD法生长工艺参量研究.光子学报(5),77-81.
MLA 张静,et al."BaTiO_3晶体薄膜PLD法生长工艺参量研究".光子学报 .5(2014):77-81.
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