Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法 | |
刘伟奇; 孟祥翔; 郭珍珍; 柳华; 康玉思 ; 魏忠伦; 冯睿
| |
| 2014-10-15 | |
| 专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 公开日期 | 2014-10-15 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 摘要 | 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法，属于光刻技术领域中涉及的曝光帧数据的产生方法。要解决的技术问题：提供一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法。技术方案包括图形处理、存储数据；给定时间值、提取行向量；处理行向量、得到曝光帧数据，这三步是在产生整个曝光帧数据的程序流程控制下进行的。本发明利用合理划分曝光位置并与曝光时间相统一，进行一次图形与划分的曝光位置对照，对所有曝光位置赋值“0”或“1”。用一个两页的三维数组存储时间值和对照的赋值，提取相同时间下各聚焦点所在曝光位置的对照赋值组成一帧，随着提取时间值的增大，去掉前段已被提取出时间值的曝光位置，有效提高了帧数据产生的速率。 |
| 专利号 | 201210268327.8 |
| 语种 | 中文 |
| 专利状态 | 公开 |
| 申请号 | 201210268327.8 |
| PCT属性 | 是 |
| 专利代理人 | 刘树清 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42100 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘伟奇,孟祥翔,郭珍珍,等. 一种用于点阵式无掩模光刻的曝光帧数据的产生方法. 201210268327.8[P]. 2014-10-15. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN201210268327-一种用于点（3409KB） | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 请求全文 | |||
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