Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
一种环形磁控溅射装置 | |
刘星元![]() ![]() | |
2014-07-09 | |
专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
公开日期 | 2014-07-09 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
摘要 | 一种环形磁控溅射装置,属于真空镀膜领域。目的在于解决现有技术中短部磁场不被作为工作有效区的问题,提高靶材的利用率。本发明的磁控溅射装置还包括内充气管、压靶材条、靶体以及内屏蔽板;内磁钢、外磁钢、极靴组装在靶体上,靶体上面有靶基,靶基上有内外两圈压靶材条,靶材条位于靶基上,他们的组装体外设有外屏蔽板,所述内屏蔽板上部、内磁钢之外有内充气管,所述外磁钢及所述内磁钢与所述极靴组成一个环形的磁场。所述内磁钢为环状矩形磁钢,加长短部溅射区域,使短部区域的溅射也可作为工作的有效区域,提高了靶材的利用率,降低生产成本;此装置中间有一长形的孔,在其中装有内屏蔽板,再通过这一长形的孔装入内充气管,使起弧容易。 |
专利号 | 201210375207.8 |
语种 | 中文 |
专利状态 | 公开 |
申请号 | 201210375207.8 |
PCT属性 | 是 |
专利代理人 | 南小平 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42073 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘星元,林杰,李会斌. 一种环形磁控溅射装置. 201210375207.8[P]. 2014-07-09. |
条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN201210375207-一种环形磁(1305KB) | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 下载 |
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