Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 一种环形磁控溅射装置 | |
刘星元 ; 林杰; 李会斌
| |
| 2014-07-09 | |
| 专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 公开日期 | 2014-07-09 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 摘要 | 一种环形磁控溅射装置，属于真空镀膜领域。目的在于解决现有技术中短部磁场不被作为工作有效区的问题，提高靶材的利用率。本发明的磁控溅射装置还包括内充气管、压靶材条、靶体以及内屏蔽板；内磁钢、外磁钢、极靴组装在靶体上，靶体上面有靶基，靶基上有内外两圈压靶材条，靶材条位于靶基上，他们的组装体外设有外屏蔽板，所述内屏蔽板上部、内磁钢之外有内充气管，所述外磁钢及所述内磁钢与所述极靴组成一个环形的磁场。所述内磁钢为环状矩形磁钢，加长短部溅射区域，使短部区域的溅射也可作为工作的有效区域，提高了靶材的利用率，降低生产成本；此装置中间有一长形的孔，在其中装有内屏蔽板，再通过这一长形的孔装入内充气管，使起弧容易。 |
| 专利号 | 201210375207.8 |
| 语种 | 中文 |
| 专利状态 | 公开 |
| 申请号 | 201210375207.8 |
| PCT属性 | 是 |
| 专利代理人 | 南小平 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42073 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘星元,林杰,李会斌. 一种环形磁控溅射装置. 201210375207.8[P]. 2014-07-09. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN201210375207-一种环形磁（1305KB） | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 下载 | |||
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