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一种间隙自适应抛光磨头
王君林; 王绍治
2014-06-18
专利权人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期2014-06-18
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种间隙自适应抛光磨头,属于光学冷加工领域中涉及的一种抛光磨头。解决了现有磨头抛光时抛光液不均匀且磨头与工件间间隙过大的问题。本发明的间隙自适应抛光磨头包括连接件、密封圈、柔性螺旋管、导向柱、弹簧、挡圈、磨头座与磨头体。本发明可与机床连接,抛光液通过机床主轴内孔流入本发明磨头并经过柔性螺旋管持续提供给磨头体。抛光时,先将磨头体与工件表面压紧,使弹簧有一定的压缩量,当工件表面有起伏或安装定位有误差时,磨头体会沿导向柱上下移动以自动补偿间隙,从而可保证抛光质量。
专利号201110452719.5
语种中文
专利状态公开
申请号201110452719.5
PCT属性
专利代理人南小平
文献类型专利
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42053
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
王君林,王绍治. 一种间隙自适应抛光磨头. 201110452719.5[P]. 2014-06-18.
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