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绝对位置测量装置1
乔栋; 吴宏圣; 曾琪峰; 李也凡; 孙强
2014-06-11
专利权人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期2014-06-11
授权国家中国
专利类型发明
摘要绝对位置测量装置,属于光电测量技术领域,为了解决现有绝对式测量中存在的抗污染能力差,对光学系统要求高的技术问题,本发明装置包括:保护介质、绝对位置条纹、发光器、凸透镜、光电传感器和位置读出模块,所述绝对位置条纹设置在保护介质内部,所述绝对位置条纹所在的平面与凸透镜主光轴垂直,所述光电传感器所在平面与凸透镜主光轴垂直;所述发光器发出的光线透过保护介质入射到绝对位置条纹上,光线经过绝对位置条纹反射,反射光通过凸透镜在光电传感器上成像,位置读出模块与光电传感器连接。本发明绝对位置测量装置在数控机床加工行业具有广阔的应用空间。
专利号201210090799.9
语种中文
专利状态公开
申请号201210090799.9
PCT属性
专利代理人南小平
文献类型专利
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/42045
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
乔栋,吴宏圣,曾琪峰,等. 绝对位置测量装置1. 201210090799.9[P]. 2014-06-11.
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文件名: CN201210090799-绝对位置测量装置-审定授权.pdf
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