Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| PrF3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响 | |
陈红; 刘星元
| |
| 2011-09-20 | |
| 发表期刊 | 发光学报
 |
| ISSN | 1000-7032 |
| 卷号 | 32期号:9页码:929-933 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/3918 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈红,刘星元. PrF3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响[J]. 发光学报,2011,32(9):929-933. |
| APA | 陈红,&刘星元.(2011).PrF3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响.发光学报,32(9),929-933. |
| MLA | 陈红,et al."PrF3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响".发光学报 32.9(2011):929-933. |
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