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光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析
杨旺; 黄玮; 许伟才; 尚红波
2013-09-10
发表期刊光学学报
期号09页码:235-239
摘要研究了光学表面中频误差对杂散光的影响规律,提出使用功率谱密度函数描述表面中频误差,并通过该描述方法进行杂散光分析;同时利用等效光瞳空间频率对表面中频误差进行公差分析。利用以上方法,对工作波长为193nm、数值孔径为0.75的光刻物镜进行元件表面中频公差分析,当要求在2~10μm范围内的杂散光强度占比小于0.5%时,中低频等效光瞳空间频率界限为16,中高频等效光瞳空间频率界限为78。当元件表面功率谱曲线指数取1.5时,功率谱密度系数小于0.06的元件表面满足杂散光要求。结果表明该方法可以有效分析光学系统杂散光和元件表面中频公差。
关键词光学设计 杂散光 功率谱密度 公差分析 光刻物镜
收录类别CNKI
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/39026
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
杨旺,黄玮,许伟才,等. 光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析[J]. 光学学报,2013(09):235-239.
APA 杨旺,黄玮,许伟才,&尚红波.(2013).光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析.光学学报(09),235-239.
MLA 杨旺,et al."光学表面中频误差对光刻物镜短程杂散光影响分析".光学学报 .09(2013):235-239.
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