Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 基于电感耦合等离子体的InP基半导体材料干法刻蚀的研究 | |
张金龙 ; 王立军; 刘云
| |
| 2011-12-14 | |
| 发表期刊 | 发光学报
 |
| 卷号 | 32期号:12页码:1276 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/3875 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张金龙,王立军,刘云. 基于电感耦合等离子体的InP基半导体材料干法刻蚀的研究[J]. 发光学报,2011,32(12):1276. |
| APA | 张金龙,王立军,&刘云.(2011).基于电感耦合等离子体的InP基半导体材料干法刻蚀的研究.发光学报,32(12),1276. |
| MLA | 张金龙,et al."基于电感耦合等离子体的InP基半导体材料干法刻蚀的研究".发光学报 32.12(2011):1276. |
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