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基于ZF6基底的可见光宽谱带高性能增透膜
曲锋; 朱华新; 刘桂林; 李帅; 孙强
2013-08-15
发表期刊中国光学
期号04页码:551-556
摘要以ZF6为基底,采用电子束蒸发物理气相沉积方法设计并制备了一种增透波长为0.4~0.8μm的宽谱带可见光区增透膜。薄膜材料仅含有TiO2和SiO2两种材料,分别作为高低折射率材料。利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明:薄膜平均透过率达98.15%,实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽带的增透特性,减少了表面剩余反射。机械强度与环境测试表明:制备的薄膜具有良好的稳定性和牢固度,可以应用于可靠性要求较高的光学系统中。
关键词光学薄膜 增透膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率
收录类别CNKI
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38735
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
曲锋,朱华新,刘桂林,等. 基于ZF6基底的可见光宽谱带高性能增透膜[J]. 中国光学,2013(04):551-556.
APA 曲锋,朱华新,刘桂林,李帅,&孙强.(2013).基于ZF6基底的可见光宽谱带高性能增透膜.中国光学(04),551-556.
MLA 曲锋,et al."基于ZF6基底的可见光宽谱带高性能增透膜".中国光学 .04(2013):551-556.
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