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全球面变焦距光刻系统设计
吕博; 刘伟奇; 康玉思; 冯睿; 柳华; 魏忠伦
2013-06-10
发表期刊光学学报
期号06页码:262-267
摘要设计了一种采用全球面透镜并具有变焦距功能的光刻系统。系统具有4个机械变焦的位置,两片负透镜作为变倍组,两片正透镜作为移动补偿组,补偿在变焦过程中由于系统共轭距离变化造成的像面移动。该系统光学总长为653.67mm,系统采用的22片透镜元件,全部采用球面设计,同时系统中没有使用特种光学玻璃。该系统工作在光刻常用波长405nm下,其500lp/mm调制函数值在4个变焦位置和所有视场内均大于0.40,绝对畸变小于六分之一特征尺寸。设计结果表明该系统成像效果良好,制作成本低,适用于工作在刻蚀微米量级分辨率、变焦距双远心光刻系统中。
关键词光学设计 变焦距光学系统 光刻物镜 球面设计
收录类别CNKI
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38687
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
吕博,刘伟奇,康玉思,等. 全球面变焦距光刻系统设计[J]. 光学学报,2013(06):262-267.
APA 吕博,刘伟奇,康玉思,冯睿,柳华,&魏忠伦.(2013).全球面变焦距光刻系统设计.光学学报(06),262-267.
MLA 吕博,et al."全球面变焦距光刻系统设计".光学学报 .06(2013):262-267.
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