CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
极紫外光学元件表面碳污染模型的建立
鹿国庆; 卢启鹏; 彭忠琦; 龚学鹏
2013-12-10
发表期刊光学学报
期号12页码:366-372
摘要为有效评估和预测在极紫外光辐照下,极紫外光刻机中残留的碳氢化合物气体在多层膜光学元件表面造成的碳污染状况,建立了光学元件表面碳沉积的复杂理论模型,描述了残留碳氢化合物在光学表面的传输,在极紫外光子和二次电子激发下引起的分子分解,并在光学表面形成碳沉积层的过程。模型预测结果和实验数据吻合得很好。理论分析表明引起碳氢化合物分解的主要原因是光子分解而不是二次电子分解。碳层的增长依赖于碳氢化合物气体偏压和极紫外光强,具有较轻分子量的碳氢化合物(<~100amu)对污染的贡献很小。同时当基底温度适度增加时(~30℃),能够加速表面碳氢化合物分子的解吸附,可有效减少碳污染。
关键词光学器件 极紫外光刻 碳氢化合物污染模型 多层膜光学元件 二次电子
收录类别CNKI
语种中文
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38599
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
鹿国庆,卢启鹏,彭忠琦,等. 极紫外光学元件表面碳污染模型的建立[J]. 光学学报,2013(12):366-372.
APA 鹿国庆,卢启鹏,彭忠琦,&龚学鹏.(2013).极紫外光学元件表面碳污染模型的建立.光学学报(12),366-372.
MLA 鹿国庆,et al."极紫外光学元件表面碳污染模型的建立".光学学报 .12(2013):366-372.
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