Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 1555nm宽带通滤光膜的设计和优化 | |
张金胜; 张金龙 ; 宁永强; 王立军
| |
| 2013-08-15 | |
| 发表期刊 | 中国光学
 |
| 期号 | 04页码:557-562 |
| 摘要 | 针对对空间通信的特殊需求,设计并制备了1 555 nm波段的高透过率、宽带通滤光膜,该滤光膜在高温高湿环境下能够稳定工作。根据薄膜设计理论,选取折射率差大的TiO2和SiO2作为镀膜材料,采用规整膜系进行膜系设计。借助Optilayer软件,采用针形优化和双面镀膜方法,得到优化的非规整膜系。采用直接与间接监控相结合的手段监控薄膜生长,并探讨了薄膜的生长条件。在电子束蒸发离子辅助沉积条件下,制备出中心波长处透过率达到97%,带宽为50 nm的滤光膜。在100℃高温和-30℃低温各保持3 h的条件下,波长漂移仅0.2 nm,具有高的稳定性和可靠性,满足空间通信的使用要求。 |
| 关键词 | 带通滤光膜 膜系设计 薄膜制备 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38220 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张金胜,张金龙,宁永强,等. 1555nm宽带通滤光膜的设计和优化[J]. 中国光学,2013(04):557-562. |
| APA | 张金胜,张金龙,宁永强,&王立军.(2013).1555nm宽带通滤光膜的设计和优化.中国光学(04),557-562. |
| MLA | 张金胜,et al."1555nm宽带通滤光膜的设计和优化".中国光学 .04(2013):557-562. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 1555nm宽带通滤光膜的设计和优化.c（191KB） | 开放获取 | CC BY-NC-ND | 浏览 下载 | |||
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