CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
离子刻蚀技术现状与未来发展
任延同
1998-04-30
发表期刊光学精密工程
期号02页码:8-15
关键词离子刻蚀技术 等子体刻蚀 反应离子刻蚀 离子束铣 聚焦离子刻蚀
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32429
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
任延同. 离子刻蚀技术现状与未来发展[J]. 光学精密工程,1998(02):8-15.
APA 任延同.(1998).离子刻蚀技术现状与未来发展.光学精密工程(02),8-15.
MLA 任延同."离子刻蚀技术现状与未来发展".光学精密工程 .02(1998):8-15.
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