Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 高纵横比微孔列阵的干刻工艺 | |
| 卢耀华; 李野; 端木庆铎; 姜德龙; 富丽晨; 田景全 | |
| 1998-12-30 | |
| 发表期刊 | 长春光学精密机械学院学报
 |
| 期号 | 04页码:21-24 |
| 关键词 | 微孔列阵 干刻 纵横比 选择比 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/31160 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 卢耀华,李野,端木庆铎,等. 高纵横比微孔列阵的干刻工艺[J]. 长春光学精密机械学院学报,1998(04):21-24. |
| APA | 卢耀华,李野,端木庆铎,姜德龙,富丽晨,&田景全.(1998).高纵横比微孔列阵的干刻工艺.长春光学精密机械学院学报(04),21-24. |
| MLA | 卢耀华,et al."高纵横比微孔列阵的干刻工艺".长春光学精密机械学院学报 .04(1998):21-24. |
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