CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
一步湿法化学刻蚀硅微尖冷阴极
王维彪; 金长春; 梁静秋; 姜锦秀; 刘乃康; 姚劲松; 赵海峰; 王永珍; 范希武
1999-03-15
发表期刊发光学报
期号01页码:83-87
关键词真空微电子 硅微尖 冷阴极
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/30693
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
王维彪,金长春,梁静秋,等. 一步湿法化学刻蚀硅微尖冷阴极[J]. 发光学报,1999(01):83-87.
APA 王维彪.,金长春.,梁静秋.,姜锦秀.,刘乃康.,...&范希武.(1999).一步湿法化学刻蚀硅微尖冷阴极.发光学报(01),83-87.
MLA 王维彪,et al."一步湿法化学刻蚀硅微尖冷阴极".发光学报 .01(1999):83-87.
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