CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备
金霞; 梁静秋; 李佳; 赵莉娜; 王维彪
2005-12-30
发表期刊微细加工技术
期号04页码:76-80
关键词微显示器件 发光二极管阵列 隔离沟槽 湿法腐蚀 欧姆接触 Algainp Gap
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/30335
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
金霞,梁静秋,李佳,等. 发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备[J]. 微细加工技术,2005(04):76-80.
APA 金霞,梁静秋,李佳,赵莉娜,&王维彪.(2005).发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备.微细加工技术(04),76-80.
MLA 金霞,et al."发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备".微细加工技术 .04(2005):76-80.
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