Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层 | |
陆广; 曹召良 ; 卢振武; 李伟; 姚计敏; 张刚; 杨柏; 沈家骢
| |
| 2003-01-15 | |
| 发表期刊 | 高等学校化学学报
 |
| 期号 | 12页码:2390-2392 |
| 关键词 | 聚合物 去湿 微接触印刷 自组装单层膜 离子刻蚀 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29927 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陆广,曹召良,卢振武,等. 利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层[J]. 高等学校化学学报,2003(12):2390-2392. |
| APA | 陆广.,曹召良.,卢振武.,李伟.,姚计敏.,...&沈家骢.(2003).利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层.高等学校化学学报(12),2390-2392. |
| MLA | 陆广,et al."利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层".高等学校化学学报 .12(2003):2390-2392. |
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