CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
球面旋涂光刻胶膜厚分布的数学模型
冯晓国; 孙连春
2005-07-20
发表期刊光学技术
期号04页码:489-490+493
关键词光刻 旋涂 球面
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29861
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
冯晓国,孙连春. 球面旋涂光刻胶膜厚分布的数学模型[J]. 光学技术,2005(04):489-490+493.
APA 冯晓国,&孙连春.(2005).球面旋涂光刻胶膜厚分布的数学模型.光学技术(04),489-490+493.
MLA 冯晓国,et al."球面旋涂光刻胶膜厚分布的数学模型".光学技术 .04(2005):489-490+493.
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